勻膠機是在速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。

主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種作方式。

送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速100-9900轉(zhuǎn)/分(±10轉(zhuǎn)/分)，起動加速度可調(diào)。每道程序的持續(xù)時間，轉(zhuǎn)速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等藝參數(shù)均可通過編程控制。

勻膠機有個或多個滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度般在500-1000nm，同晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計行恒量控制。對涂過膠的晶片有上下刮邊能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。

烘烤位，有隧道式遠紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按定的升溫速率行烘干。烘烤過程在密封的爐子中行，通過抽真空排除揮發(fā)出來的有害物質(zhì)。前烘結(jié)束后，將晶片送入收片盒內(nèi)。

選購巧

從其原理來說，可以看出選購勻膠機需要注意的幾個細節(jié)

旋轉(zhuǎn)速度

轉(zhuǎn)速的快慢和控制度直接關系到旋涂層的厚度控制和膜層均勻性。

真空吸附系統(tǒng)的構

真空泵定要無油的

材質(zhì)的選擇

對于半導體化行業(yè)的應用來說，材質(zhì)的選擇尤為關鍵，大分勻膠機采用的是不銹鋼或者普通塑料材質(zhì)，因為這種材質(zhì)的成本很低，不銹鋼的對于各類化膠液的抗腐蝕性不太好，塑料對于較溫度和壓力下產(chǎn)生變形。如果這種變形引起托盤的位置失去水平的話，將會導致旋涂時，時時低的顛簸狀態(tài)。自然無法得到好的旋涂效果。